Wie der neue 3D-Nanodruck für die Sensorfertigung funktioniert
Durch die konsequente Abkehr von traditionellen Verfahren der Halbleiter- und Siliziumtechnik (wie Lithografie-Masken, Lacke und Reinraum) wird es mit nano3DSense erstmals möglich, aufwendige und teure Prozesse bei der Fertigung von mikroelektronischen Komponenten, wie Sensoren, zu umgehen und den gesamten Herstellungsprozess zu revolutionieren.
Dabei werden unsere Mikrokomponenten, als Weltneuheit, in einem einzigartigen Bearbeitungsschritt dreidimensional (3D) und nanometergenau auf die kundenspezifische Unterlage aufgedruckt und stehen dort, z.B. zur Kräfte- oder Druckmessung jeglicher Art, sofort zur Verfügung.
Im Gegensatz zu konventionellen Lithographieverfahren wird das Design, auch von ausgefeilten Sensor-Systemen, erheblich vereinfacht und verbessert. Mehr als 250 komplexe Prozessschritte aus der Reinraumtechnik werden dabei, dank des neuen 3D-Nanodrucks, kompromisslos ersetzt. Gleichzeitig wird der gesamte Herstellungszyklus vom – CAD-Design bis zum fertigen Produkt – grundlegend vereinfacht und um ein Vielfaches beschleunigt.
3D-Nanodruck im modernen Elektronenmikroskop (SEM)
Funktionsweise des 3D-Nanodruckers mit Elektronenstrahl, Gas Injektionssystem (GIS) und Prekursor
Sensoren werden flexibel und mit hochst möglicher Präzision überall auf dem integrierten Chip direkt aufgedruckt
Rapid Prototyping: Der Sensor kann mit höchst möglicher Präzision auf fast jede Oberfläche oder jedes Material direkt appliziert werden.
Kraft- Druck- und Dehnungsmessungen mit größtmöglicher Auflösung auf jeder Unterlage
Freie Wahl von Sensorform und -größe in nur wenigen Sekunden
nano3DSense ist ein Masken- und Silizium freier Lithographieprozess mit größtmöglicher Flexibilität, der weder Reinraum- noch Siliziumtechnik erfordert
3D-Druck mit echter Nanometer-Auflösung
nano3DSense ist voll automatisierbar und ermöglicht schnelle Serienfertigung selbst auf Wafer-Ebene
Nanometer-Präzision für Serienfertigung und Rapid Prototyping
Der 3D-Nanodruck mit nano3DSense kommt in modernen Elektronenmikroskopen (SEM) zum Einsatz. Dort steht im Hochvakuum ein stark gebündelter Elektronenstrahl mit nur wenigen Nanometern Durchmesser für den Druckprozess zur Verfügung. Er übernimmt den Herstellungsprozess Schicht für Schicht. Dabei erreichen wir unschlagbar kleine Abmessungen, die es erlauben, im Bedarfsfall sogar Sensorgrößen bis unterhalb 10 Nanometer zu erzielen. Und dies auf nahezu allen Materialoberflächen (siehe Video oben).
Die wegweisende Flexibilität des Verfahrens erlaubt es dabei, z.B. hoch spezialisierte und schnell anpassbare Produktionsserien bereitzustellen, die auch bei kleinen Stückzahlen profitabel arbeiten oder maßgeschneiderte „Rapid Prototyping“-Wünsche in F&E für unsere Kunden kostengünstig und konkurrenzlos schnell umzusetzen.
Starten Sie das Video für eine Echtzeit-Demonstration der Sensorherstellung mittels 3D Nanodruck nano3DSense
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